光学系统
光栅焦距：998.8mm；
狭缝宽度：入射狭缝：20μm；出射狭缝：35-100μm；
光学结构：Paschen-Runge结构，罗兰圆装置；
光谱室采用结构坚固、膨胀系数小的特殊铸铁材料；
光谱室采用防振设计；
真空型（真空度≤3Pa）、恒温控制（35±0.1°C）的光学系统；
谱线范围：170-780nm（真空），190-780nm（空气）；
最多通道数：48个；
凹面光栅：根据用户分析需求选择配置不同的刻划光栅；
刻线数：2160gr/mm，色散率0.47nm/mm(1级)；
刻线数：1080gr/mm，色散率0.93nm/mm(1级)，0.47nm/mm(2级)，0.31nm/mm(3级)；
刻线数：1667gr/mm，色散率0.6nm/mm(1级)，0.3nm/mm（2级），0.2nm/mm（3级）。
3.2激发光源系统
高能预火花技术（HEPS）；
预燃、曝光频率可变的火花，200Hz、400Hz；
针对不同材料，软件控制可调的多种预燃条件和积分条件；
高重复单向低压火花光源。
火花台
易于更换的火花台盖板；
最优化的低氩气流向设计，耗氩量：动态流量4L/Min；静态流量0.5L/Min；
安全电路系统保护操作者和仪器，如果样品台门未关闭将不可能激发样品；
特殊客户，可提供小样品激发夹具；
采用特殊的结构设计，无须拆卸透镜，直接通过专用工具进行透镜清洗，维护方便，再次使用时等待时间短；
样品压杆可以上下左右移动，实现快速更换样品，适用于不规则型样品。同时提供小样品激发夹具；
采用激发快门测光方法，避免探测器产生眩光效应。
